最新！544家A股IPO排队企业名单！
芯片失效分析 半导体工程师 2023-12-21 10:24 发表于北京
根据上交所、深交所、北交所官方网站显示，截至12月19日，IPO排队企业数量为544家。
各板块排队企业情况如下：
中止状态的排队企业最多：
按排队企业状态来看，中止企业有311家，占比57.17%。
各板块IPO排队企业名单如下（截至12月19日）：
创业板排队企业名单
科创板排队企业名单
沪主板排队企业名单
深主板排队企业名单
北交所排队企业名单
近日有消息称，ASML将于未来几个月内推出2nm制程节点制造设备，并计划在2024年生产10台2nm设备，英特尔已采购其中6台。新一代的高数值孔径 (High-NA) EUV光刻机可以将聚光能力从0.33提高至0.55，能够获得更精细的曝光图案，用于2nm制程节点。未来几年，ASML希望将这种最新设备的产能提高至每年20台。
此前，英特尔表示已开始在其位于爱尔兰价值185亿美元的工厂采用EUV光刻机进行大量生产。爱尔兰厂是英特尔首次尝试使用EUV 技术进行大量制造。英特尔希望凭借其制造技术重新夺回领先地位。
自2017年ASML的第一台量产的EUV光刻机正式推出以来，三星的7nm、5nm、3nm工艺，台积电的第二代7nm、5nm、3nm工艺的量产都是依赖于0.33 数值孔径的EUV光刻机来进行生产。目前，随着三星、台积电、英特尔3nm制程的相继量产，目前这三大先进制程制造厂商都在积极投资2nm制程的研发，以满足未来高性能计算等先进芯片需求，并在晶圆代工市场的竞争当中取得优势。而2nm工艺的实现则可能需要依赖于ASMLHigh-NA EUV光刻机。
目前ASML正在开发的0.55 NA的High-NA EUV光刻机，分辨率为 8nm，能够帮助芯片制造商生产2nm及以下更先进制程的芯片，并且图形曝光的成本更低、生产效率更高。据研究机构KeyBanc此前表示，一台0.55 NA EUV光刻系统的成本预计为3.186亿美元，而正在出货的0.33 NA EUV光刻系统则为1.534亿美元。
来源：半导体封测
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